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感光的

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equipment downtime

设备状态异常以及不能完成预定功能的时间

71. equipment downtime:设备状态异常以及不能完成预定功能的时间. | 72. etch:腐蚀,运用物理或化学方法有选择的去除不需的区域. | 73. exposure:曝光,使感光材料感光或受其他辐射材料照射的过程.

etch

腐蚀,运用物理或化学方法有选择的去除不需的区域

71. equipment downtime:设备状态异常以及不能完成预定功能的时间. | 72. etch:腐蚀,运用物理或化学方法有选择的去除不需的区域. | 73. exposure:曝光,使感光材料感光或受其他辐射材料照射的过程.

FAB

常指半导体生产的制造工厂

73. exposure:曝光,使感光材料感光或受其他辐射材料照射的过程. | 74. fab:常指半导体生产的制造工厂. | 75. feature size:特征尺寸,指单个图形的最小物理尺寸.

photodiode

感光二极管

CCD和CMOS在制造上的主要区别主要是CCD是集成在半导体单晶材料上,而CMOS是集成在被称为金属氧化物的半导体材料上,工作原理没有本质的区别,都是利用感光二极管(photodiode)进行光电转换,这种转换的原理与太阳能电子计算机的太阳能电池效应相近,

photonasty

感光性

感温(热)性(thermonasty)生长运动由于温度的变化作为刺激引起的感光性(photonasty)生长运动由于光强的变化作为刺激引起的运动. 紧张运动(turgormovement)由于光强度改变的刺激引起叶柄基部叶褥

photoreceptor

感光器

第一步的信息缩减是在视网膜,因为其感光器(photoreceptor)只处理可见光的波长. 接着神经信号被兴趣细胞(ganglion cells)处理,这些细胞对统一光照不敏感. 这种特性是由其感受野(receptive field:RF)的空间组织所决定的.

sensitometer

感光计

密度值来源于一系列胶片试条,这些试条经精确较正的感光计(Sensitometer)曝光,然后严格标准化的冲洗. 每个试条上的照度(E,单位是勒克斯lux)乘以曝光时间(t,单位是秒sec)得到曝光量(H),即,H等于乳剂层上所受光的照度(E)和照射时间(t)的乘积(H=E*t),

The Sensitometry of Color Materials

彩色感光材料的感度測量學

Photographic Sensitometry 攝影感度測量學 | The Sensitometry of Color Materials 彩色感光材料的感度測量學 | The Reproduction fo Tone 色調的複製

yellow spot

黄点

但为何人眼看到的又总不够50mm镜头广阔呢?问题其实是出现在影像的平面大小上和镜片与人眼内的晶体之分别. 人眼所感光的地方是在视网膜(Retina)上,而感光细胞所聚集的地方也只限于一点,即黄点(yellow spot),感应色彩的锥形细胞(

sensitized

敏化了的/激活的

sensitize /使敏感/使具有感光性/变敏感/敏化/ | sensitized /敏化了的/激活的/ | sensitizer /感光剂/

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debug:调试功能

并具有在系统下载(ISP)和调试功能(DEBUG). 仿真频率 4-33 MHz 晶振可选,系统配置 11.0592 MHz . RAM采用62256静态RAM. ROM 原则上采用单片机内部FLASH-ROM. 扩展I2C接口的FLASH ROM. 系统考虑应用系统保存数据的需要,

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