刻
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notching
刻痕
在对硅进行蚀刻时会出现氧化硅等绝缘膜的结构中,沟槽底部的绝缘膜表面发生绝缘物带电,会导致离子偏移,使侧壁的下面部分被蚀刻. 这称为刻痕(Notching). 并且,即使表面为绝缘物,仍可能发生绝缘物带电,从而影响离子的轨迹,使其发生称为侧向偏移(Bowing)的变形.
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photoetch pattern
光刻图案
photolithographic diffusion window 光刻扩散窗口 j NZCpyI | photoetch pattern 光刻图案 $kvdl$e T | photolithographic mask layer 光刻掩蔽层 ;d!@4#
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尼亚大学洛杉矶分校(UCLA) 选秀:1974年被波特兰开拓者对于第一轮第一顺位选中 职业生涯:1974-1979.5 波特兰开拓者队 1979.5-1985.9 圣迭戈 快船队 1985.9-1988 波士顿凯尔特人队 身高:6英尺11英寸 体重:235磅 位置:中锋 所获荣誉 1993年入选史密斯篮球名人堂 1977,