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基板

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field effect transistor

场效电晶体

新里斯本大学(Universidade Nova de Lisboa)的一票研究团队,最近成功拿纸来当作场效电晶体(Field Effect Transistor)的中介基板(interstrate);研究人员在纸的两面制作电晶体,让他同时能够具有电阻跟基板(substrate)的作用.

field effect transistor

场效晶体管

新里斯本大学(Universidade Nova de Lisboa)的一票研究团队,最近成功拿纸来当作场效晶体管(Field Effect Transistor)的中介基板(interstrate);研究人员在纸的两面制作晶体管,让他同时能够具有电阻跟基板(substrate)的作用.

irradiation

照射

该方法用激光照射(irradiation)并在有被激光照射的半导体薄膜的基板上由非晶或多晶薄膜在希望的位置以希望的尺寸进行. 本发明的单晶硅膜制造方法包括:在透明或半透明基板上形成半导体层或金属薄膜的阶段;

optical disk recorder

光盘记录器,光盘录像机

optical disk inspection equipment 光碟测定检查设备(碟片用) | optical disk recorder 光盘记录器,光盘录像机 | optical disk substrate materials 光碟基板,基板材料

optical disk recorder

光盘记录器,光盘录象机

optical disk inspection equipment 光盘测定检查设备(盘片用) | optical disk recorder 光盘记录器,光盘录象机 | optical disk substrate materials 光盘基板,基板材料

paste

第一种是将LED发光层(亦即LED的表面)与金属筐框体接触,再从LED内侧(基板侧)将发光层产生的光线取出,这种设计会遭遇另外两个课题,首先是必需开发可转换光线的透明基板;此外LED发光层与金属筐框体接合面非常接近,导电膏(paste)容易与焊点接触造成短路,

pellicle

第8代及第8代以下TFT-LCD用掩模版产品都是由石英玻璃基板、铬膜图形及保护膜(pellicle)构成. 石英基板的尺寸从330mm 450mm到1220mm 1400mm,厚度从5mm到13mm,铬膜厚度为0.1μm,图形关键尺寸在4μm左右,各项技术指标精度要求均为亚微米级,

photolithography

影印石版术

即用制作电晶体或积体线路等所需之标准影印石版术(photolithography)制成. 在按照需要所选定之材料上,依所欲的方向予以割切. 然后加以磨平,使成平滑的基板. 磨平的程度视需要而定. 一般说来,元件之频率愈高,基板表面之容许粗糙程度(roughness)愈小.

pitch circle

节圆

藉由微探针(Probe)的施 ,在克服基板与 块之间及 块与凸脱(Release)时与基板互相吸附在一起,因此在 块下方设突起(a) 沉积第一层牺牲层和结构层(块)并模印(pattern)献后,其节圆(Pitch Circle) 半径尺寸大约在50~200 m 之间,在考虑2.

print head

墨头

一种制造一打印机的喷墨头(print head)的方法,其包括有: 于一基板上形成一驱动元件,该驱动元件包括有一第一极、一第二极及一第三极; 于该基板上形成一第一连接垫,用来测试该驱动元件的第一

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