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网络解释

薄膜形成

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self alignment

自对准

记忆元件的形成采用了基于自对准(Self Alignment)技术的"Wall"架构. 在钨触头(W Contact)上设置薄膜纵向加热器元件,然后在其上面直接形成GST,最后自对准地进行蚀刻并制出位线(Bit Line). 通过采用Wall架构,可加大光刻的定位边缘(Positioning Margin).

catalytic

催化劑

钯是一种催化剂(catalytic)材料,易于在其表面形成一层有机薄膜,且在测试环境里是反应性的(reactive),这一点将在后面章节讨论. 在测试的暴露环境里(in the test exposure),钯表面很容易形成氧化膜. 镍,正如所提到的,也会形成一层表面氧化膜.

clad

覆盖

且上述芯材(2)优选为由铜层(4)、(4)层积形成于低膨胀系数Fe合金形成的中间层(3)的两面的覆盖(clad)材料制成. 本发明公开了太阳能电池纳米晶硅薄膜的物理气相沉积装置及其方法,涉及能源新材料领域中太阳能电池纳米晶硅薄膜的制作方法;

coagulation value

凝聚值

针对此一现象,研究中以铸膜液中添加非溶剂此一成膜技术,从热力学及动力学观点对薄膜成形做一完整的探讨;其中薄膜孔隙度的控制,提出凝聚值(coagulation value)是孔隙度良好的指标,另外对於特殊孔洞形态-手指型孔洞(finger-like pore)之形成机构,

dispense

分配

由于能够在200℃以下的处理温度状态形成CNT晶体管,因此可将PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)薄膜等用于底板. 此次的CNT晶体管形成工艺采用分配(Dispense)技术涂布和干燥包含有Ag、绝缘材料和CNT在内的油墨,分别形成Ag栅极、源极和漏极、栅极绝缘膜以及CNT通道.

evaporation

蒸镀

真空鍍膜技術 蒸鍍(Evaporation) & 濺鍍(Sputter) Film Deposition 薄膜沈積(Thin Film Deposition) 在機械工業、電子工業或半導體工業領域,為了對所使用的材料賦與某種特性在材料表面上以各種方法形成被膜(一層薄膜),而加以使用,

hybridize

杂交

将跑完电泳后凝胶上DNA片段转移到另一个薄膜(membrane)上,使这段片段DNA变质(denature). 因为双股DNA已经固定在薄膜上,所以变质后无法再形成双股螺旋. 将上述薄膜暴露在杂交探针(probe)里,让探针和DNA杂交(hybridize). 探针是被会产生放射线、或可以放出颜色或萤光的物质标记的单股DNA或RNA片段.

irradiation

照射

该方法用激光照射(irradiation)并在有被激光照射的半导体薄膜的基板上由非晶或多晶薄膜在希望的位置以希望的尺寸进行. 本发明的单晶硅膜制造方法包括:在透明或半透明基板上形成半导体层或金属薄膜的阶段;

Wheat Protein

小麦蛋白"

成份:bFGF(真皮修复因子)主要针对深层组织,可提高真皮层胶原蛋白和弹力蛋白的合成能力,令肌肤回复紧致;CSHC紧肤因子能形成保湿滋润薄膜,发挥收紧提升肌肤之功效;GG hEGF酣睡紧致面膜其它成分包括小麦蛋白(Wheat Protein),能形成滋润的透气薄膜,

vapor

气化物

泡沫中的水分能降低油类的温度,同时在泡沫层以下可形成一层密封且快速扩散的水成层薄膜,而此水成层薄膜可迅速地在燃烧油面扩散及密封(Seal)空气,因此可隔绝及防止受热油类产生的易燃气化物(Vapor).

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